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美国加紧对华芯片扼杀战,佳能公司却说:要给中国提供光刻机佳能公司最近表示说,要投资500亿日元,大概也就是20多亿人民币去新建一个半导体设备厂,生产中纳米压印光客机NIL,理论上NIL技术可以做到5纳米,甚至比5纳米以下还要再低一些。 目前的光刻机主要是两大类,咱们都知道了14纳米以上的这种成熟制程的DUV,那这个技术现在主要是美国控制,荷兰的ASML和日本等国负责生产在7纳米以下的,所谓这种先进制成的芯片就要用极紫外光刻机了,就是EVU了。 目前主要是美国控制,荷兰ASML生产,日本这边都生产不了这个东西,所以整体上来看,光刻机的主要设计和制造技术以及部分关键部件是在美国的手上,其他的原单鞋容易被看出来吗零部件和整机生产在欧洲和日本,所以美国就会用这个来卡中国的脖子。 日本在中纳米工艺光刻机,也就是NIL方面还是有他独到之处的,这个技术到底怎么样,佳能公司居然跟美国去顶,为中国制造这么先进的光刻机设备吗?第一,说起NIL技术是日本佳能和铠侠公司合作开发的,最后当然要通过佳能制成光客机卖出去,之后获得最后的收益,这项技术目前主要都是在日本手上,能很大程度的回避和绕开美国的技术与法律的这种长臂关系。 当然,如果美国使用政治手段或者是直接下黑手,比如,制造点车祸什么的,即使从法律和场地管辖的角度来讲,日本是有可能会避开美国的在制造方面,如果日本和中国进行合作的话,基本能解决关键的零部件和大部分的其他部。 温馨提示:无论你是球鞋爱好者还是运动爱好者,我们的...